選擇好感興趣的視場(chǎng),正確選擇衍射條件,拍攝含有待測(cè)位錯(cuò)的顯微圖像及相應(yīng)的選區(qū)域衍射譜,這是b測(cè)定工作的前提。遺漏衍射數(shù)據(jù),事后找回視場(chǎng)進(jìn)行補(bǔ)測(cè),幾乎是不可能的。實(shí)驗(yàn)中常常是將位錯(cuò)反應(yīng)分析和b測(cè)定工作結(jié)合進(jìn)行,因此要...[繼續(xù)閱讀]

    先定義幾個(gè)決定襯度分布的參數(shù):n為操作反射g在位錯(cuò)柏氏矢量b方向上的投影值,即g·b=n。s為偏離參量,反映襯度觀察時(shí),g偏離布拉格條件程度大小的參數(shù)。x為計(jì)算位錯(cuò)襯度(衍射振幅)時(shí),表征討論點(diǎn)相對(duì)于位錯(cuò)核心處、且垂直于位錯(cuò)線...[繼續(xù)閱讀]

    區(qū)別于特定的衍射條件所形成的位錯(cuò)雙像和位錯(cuò)偶與超點(diǎn)陣位錯(cuò)這種實(shí)際上真實(shí)存在的兩根成對(duì)位錯(cuò),是十分重要的。位錯(cuò)偶是分別位于相鄰兩平行滑移面上的符號(hào)相反的兩平行位錯(cuò),如圖5-3(a)。超點(diǎn)陣位錯(cuò)則是位于同一滑移面上柏氏...[繼續(xù)閱讀]

    不全位錯(cuò)是層錯(cuò)和周圍完整晶體的邊界,兩不全位錯(cuò)可同時(shí)也可單根顯示襯度,也可二者均無(wú)襯度;二不全位錯(cuò)間的層錯(cuò)有時(shí)顯示條紋襯度,有時(shí)襯度消失,依成像衍射條件而定。通常,將不全位錯(cuò)和層錯(cuò)的襯度結(jié)合起來(lái)進(jìn)行分析。作為示...[繼續(xù)閱讀]

    判定位錯(cuò)像在其真實(shí)位錯(cuò)的哪一側(cè)的方法,是分析位錯(cuò)環(huán)性質(zhì)的常用方法。實(shí)際工作中,我們關(guān)心這些位錯(cuò)環(huán)是由空位片上下原子面的崩塌而形成的“空位環(huán)”,還是由間隙原子片嵌入完整晶體而形成的“間隙環(huán)”?前者是合金從高溫淬...[繼續(xù)閱讀]

    1.Frank-Read位錯(cuò)源發(fā)出的位錯(cuò)環(huán)通常低倍下在晶體表面觀察到的滑移線是位錯(cuò)運(yùn)動(dòng)滑出晶體留下的變形痕跡。一條滑移帶的滑移量約100～200nm,而一根位錯(cuò)產(chǎn)生的滑移量?jī)H為b,相當(dāng)于0.1nm。這就是說(shuō),一條滑移帶是成千根位錯(cuò)滑出晶體的貢...[繼續(xù)閱讀]

    1.對(duì)位錯(cuò)像襯的影響成像時(shí)若某一個(gè)低階反射或多束被激發(fā),必須采用考慮吸收的動(dòng)力學(xué)理論分析位錯(cuò)像襯。這時(shí)位錯(cuò)的襯度(強(qiáng)度)輪廓與位錯(cuò)所在處的深度關(guān)系極大。Howie和Whelan[36]曾討論過傾斜位錯(cuò)的像襯特征,是動(dòng)力學(xué)效應(yīng)的一個(gè)...[繼續(xù)閱讀]

    位錯(cuò)密度是研究材料形變過程和微觀結(jié)構(gòu)對(duì)力學(xué)性能影響的重要參數(shù)。測(cè)定位錯(cuò)密度的方法有二,一是X-射線方法,它是根據(jù)位錯(cuò)密度對(duì)X-射線展寬的函數(shù)關(guān)系建立起來(lái)的方法。它雖不能在測(cè)量時(shí)同時(shí)看到位錯(cuò),但它的結(jié)果反映了一定的...[繼續(xù)閱讀]

    位錯(cuò)密度ρ定義為晶體單位體積內(nèi)所含位錯(cuò)線的總長(zhǎng)度,即V為被測(cè)量區(qū)域晶體的體積,L為該體積內(nèi)位錯(cuò)總長(zhǎng)度。單位為cm-2。實(shí)際工作中測(cè)量L和V的準(zhǔn)確值均有困難。但按體視學(xué)原理,經(jīng)過簡(jiǎn)單推導(dǎo),可以得到位錯(cuò)密度與位錯(cuò)交截單位面積...[繼續(xù)閱讀]

    如前所述,全位錯(cuò)分解為兩不全位錯(cuò),它們之間夾著一片層錯(cuò)。擴(kuò)展位錯(cuò)是兩不全位錯(cuò)與層錯(cuò)的統(tǒng)稱。顯然,分析層錯(cuò)和分析作為層錯(cuò)邊界的不全位錯(cuò)直接相關(guān)。從擴(kuò)展位錯(cuò)分析中,歸納出如下幾點(diǎn),對(duì)從整體上把握擴(kuò)展位錯(cuò)的分析是有益...[繼續(xù)閱讀]