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陣列式鈮酸鋰電光調(diào)制器偏置點(diǎn)控制技術(shù)研究(特邀)

激光與光電子學(xué)進(jìn)展 頁數(shù): 8 2024-06-10
摘要: 受材料自身特性的影響,電光調(diào)制器的偏置工作點(diǎn)會隨環(huán)境改變發(fā)生漂移,從而影響調(diào)制器的調(diào)制效果。針對鈮酸鋰馬赫-曾德爾電光調(diào)制器偏置點(diǎn)漂移的問題,研究適用于四陣列平行式電光調(diào)制器偏置點(diǎn)控制技術(shù),提出了一種結(jié)合光功率和擾動信號幅值檢測的控制方法,采用時(shí)分復(fù)用、增益幅值可調(diào)、雙模式識別等方法有效減少了硬件冗余,實(shí)現(xiàn)了對偏置工作點(diǎn)的精確控制。 (共8頁)

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