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用于應(yīng)力雙折射分布測量的多構(gòu)型掃描系統(tǒng)設(shè)計(jì)

應(yīng)用光學(xué) 頁數(shù)： 8 2024-05-15
摘要： 為了實(shí)現(xiàn)對不同構(gòu)型光學(xué)樣品進(jìn)行應(yīng)力雙折射分布測量，在使用雙彈光調(diào)制方法的基礎(chǔ)上，設(shè)計(jì)了一種應(yīng)用于雙折射分布測量的多構(gòu)型掃描系統(tǒng)。該系統(tǒng)在保證測量的高分辨率的同時(shí)，通過保持激光器靜止，同時(shí)使樣品進(jìn)行快速移動，提高了測量精度與廣度。在樣品測量方面，采用633 nm(1/4)玻片測試，測試相對誤差的范圍為0.79%～0.95%，波動范圍為0.12 nm，標(biāo)準(zhǔn)差為0.035 2；采用B... （共8頁）

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